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HAS-562 低磷化學鎳品名:低磷化學鎳 型號:HAS-562 高硬度耐磨,低磷無電解化學鍍鎳; 它是一種可以提供高硬度,耐磨,尤其是在堿性環境下具有良好的耐腐蝕性能的化學鍍鎳液。HAS-562的硬度接近硬鉻,提供的鍍層均勻性可以達到電鍍硬鉻經加工和拋光處理后一樣的鍍層。具有高硬度而沒有經過熱處理低磷化學鍍鎳是最好的工藝。 在電子行業具有良好的性能,熔點在1100℃以上,低電阻使得它合適代替比它價錢更貴鎳硼合金鍍層。 它的工作液有3組份,每組份都達到最好的品質,它們都是使用隔離的設備和統計組份比例制備的。 特點 Ø 具有高耐磨性; Ø 具有接近硬鉻的硬度; Ø 堿性環境下具有很好的耐腐蝕性能; Ø 高熔點; Ø 低磷具有良好的焊接性能; 鍍層特性: 鎳含量 99 –96% w/w 磷含量 1– 4% w/w 硬度 46 - 47 Rc as plated;66 - 68 Rc 750 oF/1hr. 電阻 20– 30 micro-ohm/cm 熔點 1100 ℃ 密度 8.5-8.8 g/cc 電導度 通過 (ASTM B-489) 鍍液成份: HAS-562A充當綠色建浴劑及補充劑 HAS-562B充當無色建浴劑 HAS-562C充當無色補充劑 操作條件:
設備規格: 槽體材質 :高密度PP塑料;PVC塑料;鈦合金;陽極鈍化不銹鋼 加熱器材質 :316不銹鋼;PTFE 材質披覆 泵浦材質 :CPVC材質;不銹鋼材質 排風設備 :蒸氣排風設備 鍍液建浴組成:
建浴步驟: 1. 裝設清潔的化學鎳槽體,將槽壁進行鈍化,然后添加一半槽積的去離子水 2. 添加5 % 體積比的562A 3. 添加15% 體積比的562B 4. 然后添加去離子水進入槽體中,直到操作位置 5. 進行分析槽液的鎳金屬含量,如果有需要調整濃度,再行添加建浴劑 6. 進行調整槽液的酸堿值至pH=7.2 7. 過濾槽液并且加熱至85 ℃ 8. 此時既可使用化學鎳槽液進行沉積電鍍 槽液維持: 1. 添加補充劑562A 與562C 以維持控制槽液的鎳金屬最佳含量為 6 g/L與次亞磷酸根最佳濃度為22.5 g/L 2. 槽液的鎳金屬含量與次亞磷酸根濃度的分析方法如下: 鎳金屬濃度分析: 試藥:濃氨水;1% 紫尿酸銨 指示劑(1g紫尿酸銨混合于100g 氯化鈉; 0.1 M EDTA (O.1 M = 37.235 g/L) 分析步驟: 1. 取得10 ml的化學鎳槽液,放置于250 ml 的三角錐形瓶中 2. 添加去離子水于三角錐形瓶中,稀釋溶液至100 ml 3. 添加10 ml的濃氨水 4. 添加少許紫尿酸銨指示劑 5. 使用0.1 M EDTA(或0.0575M)標準滴定液,進行滴定溶液至紫色滴定終點,記錄已消耗EDTA滴定 液的體積 6. 計算化學鎳槽液的鎳金屬濃度 (g/L) = ml 0.1 M EDTA × 0.587 mL 0.0575M EDTA x 0.338
次亞磷酸根濃度分析: 試藥:6 N 鹽酸水溶液;0.1 N 碘溶液;0.1 N 硫代硫酸鈉溶液 分析步驟: 1. 取得5 ml的化學鎳槽液,放置于250 ml 的三角錐形瓶中 2. 添加40 ml 去離子水于三角錐形瓶中 3. 添加30 ml的 6 N鹽酸水溶液 4. 添加50 ml的0.1 N 碘溶液 5. 放置三角錐形瓶于黑暗處;溫度為21 °C 約30分鐘 6. 添加少許淀粉指示劑 7. 使用0.1 N 硫代硫酸鈉標準滴定液,進行滴定溶液至無色滴定終點,記錄已消耗硫代硫酸鈉滴定液的體積 8. 計算化學鎳槽液的次亞磷酸根濃度 (g/L) = ﹝(ml 0.1 N 碘溶液)-(ml 0.1 N 硫代硫酸鈉標準滴定液)﹞×1.06 以1升工作液為例:
注意事項: 每次添加補充劑最好不要超過原始工作槽液鎳金屬含量的15%以上,如果需要大量添加補充劑,請少量多次添加所需要的補充劑數量。
pH 控制
一般添加補充劑562A與562C即可控制槽液的酸堿值在操作范圍內,另外如有需要調整槽液的酸堿值,可以添加50% v/v氨水或經過稀釋的碳酸鉀調高槽液的酸堿值,相反地添加10% v/v 硫酸水 溶液降低槽液的酸堿值。添加時務必緩慢添加并且攪拌循環槽液。
存放 & 搬運
在移動桶之前, 要確定安全口封閉牢固. 應遠離氰化物, 水化和原料, 水源及排水溝. 保持桶豎直. 避免吸入蒸汽. 不要拿在手中. 保持容器密封. 避免接觸皮膚和眼睛. 保證適當的通風. 搬運后應徹底洗手. 吸入有害 / 吞咽有害 / 對皮膚及眼睛有刺激性。
廢水處理
HAS-562無電解液包含有鎳金屬必須經過廢水處理才能排放(達到相關規定), 嚴格按照國家或當地規定. 上一篇HAS-868 銀光劑下一篇HAS-901 銀保護 |