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HAS-820組合 酸性光亮鍍銅
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品名:酸性光亮鍍銅工藝 型號:HAS-820 l 特性 1. 鍍液容易控制,出光快,填平度極佳。鍍層不易產生針孔,內應力低,富延展性。 2. 電流密度范圍寬闊,鍍層填平度可高至80%,達致光亮效果 3. 沉積速度特快,在4.5安培/平方分米的電流密度下,每分鐘可鍍1微米的銅層。 4. 鍍層電阻率低,故非常適合于對鍍層物理性能要求高的電機工業。 5. 鍍層的脆性低,可有效解決鍍層經冷熱循環測試所產生的開裂問題。 6. 可應用于各種不同類型的基體金屬,鐵件、鋅合金件、塑膠件等同樣適用。 7. 雜質容忍量高,一般在使用約800-1000安培小時/升后,才需用活性碳粉處理。
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