l 新配槽成份
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| 最佳 |
六水合硫酸鎳（滾鍍） 六水合硫酸鎳（掛鍍） 六水合氯化鎳 硼酸 走位劑HAS-835A 光亮劑HAS-835B（滾鍍） 光亮劑HAS-835F（掛鍍用） | 180 - 240g/L 250 - 310g/L 40-60g/L 35-45g/L 5-10ml/L 0.1-0.4ml/L 0.1-0.4ml/L | 220 280 50 40 7.0 0.1 0.2 |
l 操作條件
密度（20℃） pH 溫度 電流密度 陽極電流密度 整流器 攪拌 過濾 沉積速率 前處理 | 1.20g/cm3(240Be) 3.9～4.6，最佳值是4.2 50～65℃，最佳值是60℃ 2.0～8.0A/d㎡，最佳值是4.0 A/d㎡ 1～3 A/d㎡ 通常是12V，波紋必須小于5% 空氣攪拌或陰極移動 連續過濾，最好每小時過濾鍍液四次 5 A/d㎡時，約1um/min 鍍鎳前，工件必須進行徹底前處理工序 |
l 維護
| 最佳值 | 最小值 | 最大值 |
鎳 氯化物 硼酸 | 75g/L 15g/L 40g/L | 70 g/L 14 g/L 37 g/L | 85 g/L 20 g/L 45/L |
l 確定比重
要確定比重：在容量瓶中加約100ml工作液，冷卻至標準溫度后再測量比重。
調整
仔細分析試驗結果后，才可進行補加。
必須每天控制比重、溫度和pH。
必須每周做一次候氏槽試驗。
注意：如果加此說明書未指定的藥水，會干擾工作液，對其生產負面影響，而且會使鍍層質量降低。
各成份的功能
走位劑HAS-835A
降低鍍層應力，增強低位走位。
光亮劑HAS-835B，HAS-835F
與走位劑HAS-835A配合使用，能形成良好的整平力及非常高的光澤度。工藝要
求不同，能獲得不同程度的整平力。
除雜
使用Zn-2除雜水，可徹底消除雜質的影響，特別是銅、鋅雜質的影響。（可參閱Zn-2說明書了解詳細功能）
鍍液配制
1. 注入三分之二的水于代用缸(或備用槽中),加熱至66℃。
2. 加入所需的硫酸鎳及氯化鎳，攪拌直至完全溶解。
3. 加入碳酸鎳或4%氫氧化鈉溶液，調整酸堿度 (pH值)至5.2。
4. 加入2.5毫升/升雙氧水.加入前先以水稀釋,攪拌打氣2小時。
5. 加入2-4克/升活性碳粉，攪拌數小時，然后靜置整晚。
6. 用過濾泵，把鍍液濾入清潔的電鍍槽內。
7. 將過濾泵清洗干凈，然后再填裝活性碳粉0.2克/升及助濾粉0.2克/升。
8. 加入所需的硼酸，攪拌使其完全溶解。
9. 加入稀硫酸，調整酸堿度(pH值)至3.8– 4.6。
10. 用波浪狀的假陰極以低電流密度（0.1 – 0.4 安培/平方分米）連續電解6小時以上，或直至低位顏色由暗黑變為淺灰色。
11. 檢查pH值,調整至標準范圍。
12. 加入上表中的鎳添加劑后，便可以開始試鍍。
設備
1．鍍槽柔鋼缸內襯合適的塑料或其它認可材料。
2．溫度控制可用蒸汽或石英電熱筆加熱。
3．空氣攪拌鍍液需要平均而強烈的空氣攪拌，所需的空氣由低壓無油氣泵供應。
4．循環過濾鍍液需要連續性循環過濾，過濾泵要能在一小時將整槽鍍液過濾5至8次。過濾泵每工作40小時,放入活性碳粉0.6克/升,或每工作8小時混入0.2克/升活性碳于助濾粉中。
組成原料的功用
硫酸鎳鎳離子的主要來源,沉積在鍍件上的金屬鎳就是鎳離子還原的。
氯化鎳提供氯離子來幫助陽極溶解,減少陽極極化現象,增加鍍液的導電性，并使陰極有較高的電流密度,同時亦提供鎳離子。
硼酸起緩沖作用，可穩定陰極膜的pH值。硼酸含量過低時,鍍層會產生針孔,容易變脆。含量過高時，陰極袋會因硼酸結晶而阻塞，間接加大電阻。
添加劑的作用及補充
走位劑HAS-835A 其作用是減少鍍層內應力，增加鍍層的走位性及覆蓋能力，以維持最佳光澤效果。在活性碳連續過濾下只能除去少量的光亮劑835B。
光亮劑 HAS-835B （HAS-835F）控制鍍層的光亮度及填平度。雖然少量的走位劑會被活性炭、陽極袋及槽內襯的塑膠所吸收而產生損耗，但主要的消耗產生于電鍍過程中。其可有赫爾槽試驗及鍍件外觀來加以控制。如其他添加劑在限定范圍內，過低的走位劑HAS-835A會使鍍件在低電流密度區有明顯的薄舞狀。過高的HAS-835A則會造成鍍層變脆及低電位覆蓋能力差濕潤劑 可維持鍍液表面張力在40-45達因/厘米，故能防止鍍層產生針孔。其適用于空氣攪拌，能被雙氧水和高錳酸鉀所摧毀，亦為活性炭所吸收。
補給方法
Nickel Plus光亮鎳添加劑 | 消耗量（1000安培小時） |
走位劑 HAS-835A 光亮劑 HAS-835B(HAS-835F) | 100 – 200 毫升 100 – 200 毫升
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